電化學拋光是以被拋光工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩電極同時浸入電化學拋光槽中，通以直流電而產生有選擇性的陽極溶解，陽極表面光亮度增大，這種過程與電鍍過程正好相反。

 電化學拋光機理－黏性薄膜理論如下。拋光主要是陽極電極過程和表面磷酸鹽膜共同作用的結果。從陽極溶解下來的金屬離子與拋光液中的磷酸形成溶解度小，黏性大、擴散速率小的磷酸鹽，并慢慢地積累在陽極附近，粘接在陽極表面，形成了黏滯性較大的電解液層。密度大、導電能力差的黏膜在微觀表面上分布不均勻，從而影響了電流密度在陽極上的分布。很明顯，黏膜在微觀凸起處比凹洼處的厚度小，使凸起處的電流密度較高而溶解速率較快。隨著黏膜的流動，凸凹位置的不斷變換，粗糙表面逐漸整平。不銹鋼表面因此被拋光達到高度光潔和光澤的外觀。

 由(you)此可見，溶(rong)液濃(nong)度(du)和(he)黏度(du)是個重要因(yin)素(su)，特(te)別是溶(rong)液的(de)(de)(de)黏度(du)，往往表(biao)現(xian)在新配的(de)(de)(de)拋(pao)光(guang)液雖然(ran)組分(fen)濃(nong)度(du)達(da)到了要求，但由(you)于黏度(du)尚未達(da)到要求而(er)拋(pao)不(bu)光(guang)，只有在經(jing)過(guo)一(yi)段時間的(de)(de)(de)電解后才開始拋(pao)光(guang)良好。特(te)別是溶(rong)液與(yu)零件(jian)的(de)(de)(de)界面(mian)濃(nong)度(du)和(he)黏度(du)，在拋(pao)光(guang)中起著(zhu)重要作用。這就是為什么要求零件(jian)在進入拋(pao)光(guang)液前表(biao)面(mian)水(shui)膜要均勻(yun)，否則(ze)零件(jian)表(biao)面(mian)帶水(shui)膜的(de)(de)(de)不(bu)均勻(yun)性(xing)，破壞了黏膜的(de)(de)(de)正常生(sheng)成，發(fa)生(sheng)局部過(guo)腐(fu)蝕現(xian)象。水(shui)洗后的(de)(de)(de)零件(jian)最好甩干后迅速下槽，這樣通電拋(pao)光(guang)后，表(biao)面(mian)過(guo)腐(fu)蝕現(xian)象即可避免。

 電(dian)化(hua)學(xue)拋(pao)(pao)光還不(bu)(bu)能完全取代機械(xie)拋(pao)(pao)光。電(dian)化(hua)學(xue)拋(pao)(pao)光只是(shi)對金(jin)屬表(biao)面上(shang)起微觀整(zheng)平作用。宏(hong)觀的整(zheng)平要靠機械(xie)拋(pao)(pao)光。電(dian)化(hua)學(xue)拋(pao)(pao)光對材料化(hua)學(xue)成分的不(bu)(bu)均(jun)勻性和顯微偏析(xi)特(te)別敏感，使金(jin)屬基體和非金(jin)屬夾雜物之間常被劇烈(lie)浸蝕，有時，有不(bu)(bu)良(liang)的冶金(jin)狀態(tai)，金(jin)屬晶粒尺寸結構的不(bu)(bu)均(jun)勻性、軋制痕跡(ji)、鹽類或氧化(hua)物的污染(ran)、酸洗過度(du)(du)以(yi)及淬火過度(du)(du)等均(jun)會(hui)對電(dian)化(hua)學(xue)拋(pao)(pao)光產生(sheng)不(bu)(bu)良(liang)影(ying)響。這(zhe)些(xie)缺陷常常要靠先期的機械(xie)拋(pao)(pao)光來彌(mi)補(bu)。

電化學(xue)拋光與手工機械拋光相比，能發揮(hui)下列優(you)點：

 ①. 產品內外色澤(ze)一(yi)致(zhi)，清潔光亮，光澤(ze)持久，外觀輪廓(kuo)清晰；

 ②. 螺紋(wen)中的(de)毛刺(ci)在電解(jie)過程(cheng)中溶(rong)解(jie)脫落，螺紋(wen)間(jian)配合松滑，防(fang)止螺紋(wen)間(jian)咬時(shi)的(de)咬死(si)現象(xiang)；

 ③. 拋光面抗腐蝕(shi)性能(neng)增強；

 ④. 與機械拋光(guang)相比，生(sheng)產效率高，生(sheng)產成本低。