點腐蝕就是指在金屬材料表面大部分不腐蝕或者腐蝕輕微，而分散發生的局部腐蝕。一般點腐蝕的孔徑都小于1mm，深度都小于孔徑。不銹鋼在含有Cl的環境中容易出現點腐蝕的傾向。 

 金屬材料在某些環境介質中，經過一定的時間后，大部分表面不發生腐蝕或腐蝕很輕微，但在表面的微小區域內，出現蝕孔或麻點，且隨著時間的推移，蝕孔不斷向縱深方向發展，形成小孔狀腐蝕坑。這種現象稱為點腐蝕，亦稱為點蝕、小孔腐蝕、孔蝕(shi)。     

  點蝕(shi)(shi)幾何形態上構(gou)成了大陰(yin)極小陽極的(de)(de)結構(gou)，致使蝕(shi)(shi)孔的(de)(de)陽極溶(rong)解速度相當大，能(neng)很快導致腐蝕(shi)(shi)穿孔破壞。此外(wai)，點蝕(shi)(shi)能(neng)夠加劇(ju)其他類(lei)型(xing)的(de)(de)局部(bu)腐蝕(shi)(shi)，如晶間(jian)腐蝕(shi)(shi)、應力腐蝕(shi)(shi)開裂、腐蝕(shi)(shi)疲勞等。  點腐蝕(shi)(shi)的(de)(de)重要特征 點蝕(shi)(shi)多(duo)發生(sheng)在(zai)表面生(sheng)成氧化(hua)膜(mo)或鈍化(hua)膜(mo)的(de)(de)金屬材(cai)料上，或有陰(yin)極性(xing)鍍層的(de)(de)金屬上。 點蝕(shi)(shi)常常發生(sheng)在(zai)有特殊離子的(de)(de)介質中，即有氧化(hua)劑和(he)同時有活(huo)性(xing)陰(yin)離子存在(zai)的(de)(de)鈍化(hua)性(xing)溶(rong)液中。活(huo)性(xing)陰(yin)離子是發生(sheng)點蝕(shi)(shi)的(de)(de)必要條件。       

  點(dian)腐(fu)蝕是一(yi)種外觀隱蔽(bi)而破壞(huai)性極大(da)的局部腐(fu)蝕形式，點蝕發生(sheng)在特定臨界電位以上。 

影響(xiang)點蝕的因(yin)素：

  1. 鹵素(su)離(li)子及其(qi)它陰離(li)子：在(zai)氯化物中，鐵(tie)、鎳(nie)、鋁、鈦(tai)、鋯以(yi)及它們的(de)合金均(jun)可(ke)能產生點蝕。鋅(xin)、銅和鈦(tai)在(zai)含氯離(li)子的(de)溶液中，也可(ke)遭(zao)受鈍態的(de)破壞(huai)。      

    很多含氧(yang)的非侵蝕性陰(yin)離子，例如(ru)NO3-、CrO42-、SO42-、OH-、CO32-等，添(tian)加(jia)到(dao)含Cl-的溶液中，都(dou)可(ke)起到(dao)點(dian)蝕緩(huan)蝕劑的作用。     而硫氰酸(suan)根、高氯酸(suan)根、次氯酸(suan)根等，可(ke)以(yi)促進點(dian)蝕。 

  2.  溶液(ye)中的(de)陽(yang)離子和(he)(he)氣體物質：腐蝕介質中，金屬陽(yang)離子與侵蝕性鹵(lu)化物陰離子共存時，氧化性金屬離子，如Fe3+、Cu2+和(he)(he)Hg2+對點蝕起促進(jin)作用。        

  3. 溶液(ye)的pH值(zhi)(zhi)： 在溶液(ye)pH值(zhi)(zhi)低于(yu)9～10時，對二價金屬，如鐵、鎳(nie)、鎘、鋅和(he)鈷等(deng)，其點(dian)蝕(shi)電(dian)位與pH幾(ji)乎無(wu)關，高于(yu)此pH值(zhi)(zhi)時，其點(dian)蝕(shi)電(dian)位變正，是由于(yu)OH-離子的鈍化作(zuo)用所致。     

    對三價金屬，例如鋁(lv)，發生點蝕(shi)(shi)的(de)條件及點蝕(shi)(shi)電位都不受溶液(ye)pH值的(de)影響，這是由鋁(lv)離子水解的(de)各步(bu)驟的(de)緩沖作用所致。 

 4. 環境溫(wen)度：對鐵(tie)及其合金而(er)言，點蝕電位通(tong)常(chang)隨溫(wen)度升高而(er)降低(di)。

 5.介質流速：溶(rong)液(ye)的流動對抑制點蝕(shi)起一定的有益作(zuo)用。