金(jin)(jin)屬在大氣(qi)中會自發進行氧(yang)(yang)化(hua)，隨著(zhu)溫(wen)度增高(gao)(gao)，大氣(qi)中水分蒸發，濕(shi)腐(fu)蝕變成干腐(fu)蝕，腐(fu)蝕更嚴(yan)重，在工業(ye)中成為重要問題。如(ru)高(gao)(gao)溫(wen)石(shi)油化(hua)工管(guan)道等(deng)都存在高(gao)(gao)溫(wen)氧(yang)(yang)化(hua)問題。在高(gao)(gao)溫(wen)下金(jin)(jin)屬表面產生一層氧(yang)(yang)化(hua)膜。Pilling和Bedworth曾指出(chu)，抗氧(yang)(yang)化(hua)性和氧(yang)(yang)化(hua)物與金(jin)(jin)屬的體(ti)(ti)積比(bi)有關(guan)。如(ru)用R表示單位體(ti)(ti)積，則：

  當R＜1時，氧(yang)化物(wu)不能覆蓋金屬表面，因而沒(mei)有保(bao)護性；當R＞1時，氧(yang)化物(wu)中將產生較大的(de)應力，膜易破(po)(po)裂(lie)脫落，保(bao)護性不好(hao)。理想的(de)比值應接近(jin)1。此外，保(bao)護性高的(de)膜還應具有高熔(rong)點，低蒸氣(qi)壓，膨(peng)脹(zhang)系數(shu)與金屬接近(jin)，良(liang)好(hao)的(de)抗破(po)(po)裂(lie)高溫塑(su)性，低電導率(lv)，對金屬離(li)子(zi)和(he)氧(yang)的(de)擴散系數(shu)低等。

  金屬的(de)高(gao)溫氣(qi)(qi)體腐蝕也是(shi)一個電(dian)化學(xue)過程。如圖(tu)8.1.13所示。陽極(ji)反應是(shi)金屬離(li)子化，在(zai)(zai)膜-金屬界面發生(sheng)；陰極(ji)反應是(shi)氧(yang)的(de)離(li)子化，在(zai)(zai)膜-氣(qi)(qi)體界面發生(sheng)。電(dian)子和離(li)子（金屬離(li)子和氧(yang)離(li)子）在(zai)(zai)膜中(zhong)兩極(ji)之間流動(dong)，它(ta)和水溶液中(zhong)的(de)腐蝕電(dian)池相似。

  防止高溫氧(yang)化最有效的方法(fa)是在(zai)基體金(jin)屬中加(jia)入有效的合金(jin)成分，使(shi)膜中生成保護性很(hen)強的二元或三元化合物，使(shi)離(li)子擴散(san)更為困難，氧(yang)化速(su)度(du)因(yin)而下降。