高溫H₂S/H₂腐蝕是一種較為常見的均勻腐蝕，發生在溫度超過400oF時。這種硫化物腐蝕和高溫硫/環烷酸腐蝕不一樣。H₂S/H₂腐蝕發生在氫加工設備中，例如氫除硫工藝和氫裂化裝置中，當硫化物在催化劑的作用下與氫氣反應可以生成硫化氫。沒有催化劑的存在時，氫氣存在時，就算在很高的溫度下，硫化物通常也不會轉化成硫化氫。腐蝕速率與制造材料、溫度、工藝流體的性質及H₂S的濃度有關。 

  在H₂S/H₂的環境中，低含量的鉻（如5%到9%鉻）只能適當增加鋼的抗腐蝕性。要使腐蝕速率顯著降低，鉻的含量至少應為12%。鉻和鎳的含量越多，越能穩定的增加抗腐蝕性。        

 硫酸（H₂SO₄）作為工業中用途最廣的一種化學物質，通常用作烷化工藝的催化劑。硫酸是強酸，一定條件下擁有很強的腐蝕性。它的腐蝕作用很廣，而且影響它的因素也很多。影響酸的腐蝕作用最主要的因素是濃度和溫度是。另外，流速和酸中的雜質，特別是氧及氧化劑，都對腐蝕產生很大的影響。       

  濃氫氟酸(suan)通常用(yong)(yong)作(zuo)HF烴化裝(zhuang)置中的催化劑。烴化作(zuo)用(yong)(yong)就(jiu)是(shi)在酸(suan)催化劑下將烷烴（通常是(shi)異(yi)丁(ding)烷）和(he)石蠟(la)（丁(ding)烯，丙烯，戊烯）結合起來。不管是(shi)液態還是(shi)氣態的HF都會對人體(ti)產生(sheng)很(hen)大的傷害。如果一不小(xiao)心溢(yi)出，它(ta)會形成濃厚的、低沉(chen)的有(you)毒(du)云團。所(suo)以使用(yong)(yong)HF時需特別小(xiao)心。        

  HF對材(cai)料(liao)(liao)的(de)腐蝕程度(du)取決于含水HF酸的(de)濃度(du)和溫度(du)。其他的(de)變量，如(ru)湍(tuan)(tuan)流(liu)情(qing)況(kuang)、流(liu)速、通風狀況(kuang)和不純度(du)等等，都會對腐蝕情(qing)況(kuang)產生嚴重的(de)影(ying)響。有些金屬會形(xing)成氟化(hua)物保護(hu)層或(huo)氟化(hua)物垢，進而它可(ke)以保護(hu)材(cai)料(liao)(liao)表面。如(ru)果這(zhe)些保護(hu)層的(de)流(liu)失，尤其是在(zai)高流(liu)速或(huo)湍(tuan)(tuan)流(liu)情(qing)況(kuang)下，可(ke)能會導致腐蝕速率加(jia)快(kuai)。

  酸性污水腐蝕是一種水溶液中含有硫化氫和氨引起的腐蝕，一般只考慮碳鋼在超過中性PH值時的腐蝕。這種腐蝕是由二硫化銨（NH₄HS）引起的，又叫作氫硫化銨。水中NH₄HS的濃度以及流體流速是影響酸性污水腐蝕的主要變量。次要影響變量為PH值，氰化物和水中氧氣含量。

   考慮酸(suan)性(xing)污(wu)水(shui)腐蝕是(shi)大(da)多(duo)數精煉工藝設(she)(she)備都(dou)要(yao)(yao)考慮到的(de)(de)東(dong)西，特別是(shi)氫(qing)(qing)裂化(hua)(hua)(hua)(hua)裝置，加氫(qing)(qing)裝置，焦化(hua)(hua)(hua)(hua)裝置，輕(qing)餾分，催化(hua)(hua)(hua)(hua)裂化(hua)(hua)(hua)(hua)，胺處理裝置以及(ji)除酸(suan)性(xing)污(wu)水(shui)裝置。硫化(hua)(hua)(hua)(hua)氫(qing)(qing)是(shi)通過硫化(hua)(hua)(hua)(hua)合物的(de)(de)熱或催化(hua)(hua)(hua)(hua)轉變形(xing)成(cheng)的(de)(de)。而(er)銨是(shi)由氮化(hua)(hua)(hua)(hua)合物簡單(dan)轉化(hua)(hua)(hua)(hua)過來的(de)(de)。在(zai)一定(ding)程度上，因為原油(you)分餾取(qu)決于(yu)水(shui)的(de)(de)PH值(zhi)(zhi)，所以酸(suan)性(xing)污(wu)水(shui)的(de)(de)腐蝕顯得更(geng)為重要(yao)(yao)。低于(yu)中性(xing)PH值(zhi)(zhi)時，在(zai)原油(you)分餾、石腦油(you)加氫(qing)(qing)處理及(ji)催化(hua)(hua)(hua)(hua)形(xing)成(cheng)冷凝水(shui)的(de)(de)設(she)(she)備中，主要(yao)(yao)腐蝕機(ji)理是(shi)HCl。在(zai)某些分餾加氫(qing)(qing)裝置中也可能形(xing)成(cheng)少量的(de)(de)銨，不(bu)過這取(qu)決于(yu)操作(zuo)條(tiao)件。